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技術(shù)簡(jiǎn)介

PACVD技術(shù)

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PACVD技術(shù)簡(jiǎn)介：

PACVD等離子體輔助化學(xué)氣相沉積工藝允許在低于200度的溫度條件下沉積類(lèi)金剛石涂層。它能改善呢關(guān)鍵表面的摩擦性能，增強磨損保護。由于CVD和等離子體技術(shù)結合生產(chǎn)的高能量。工藝提供良好的附著(zhù)力、均勻表面和高表面質(zhì)量。由于沉積溫度低，大量基材如硬化剛、鋁、鈦合金、硬金屬、陶瓷、超合金等均能被涂覆。ADLC涂層已經(jīng)成功應用于紡織、醫藥、發(fā)動(dòng)機工業(yè)、量具、泵、密封、閥門(mén)和精密制造等領(lǐng)域。

PACVD工作原理：

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